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低輻射鍍膜生產(chǎn)線
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  • 產(chǎn)品簡(jiǎn)介

  北玻鍍膜水平式建筑鍍膜線,采用磁控濺射沉積技術(shù),在玻璃表面沉積一系列介質(zhì)和金屬薄膜,主要用于加工各種low-E玻璃、AR膜,以及陽光控制玻璃等。
  
 設(shè)備特點(diǎn):
  
  1. 濺射室由一系列結(jié)構(gòu)相同的795mm井位單元構(gòu)成
  
  2. 泵井位采用獨(dú)特的氣體隔離裝置
  
  3. 應(yīng)用新一代以鋁型材為支撐結(jié)構(gòu)的可調(diào)式磁棒
  
  4. 設(shè)計(jì)5-9段輔助工藝氣體分配系統(tǒng),每一段可以選擇不同類型的氣體
  
  5. 采用伺服電機(jī)控制,實(shí)現(xiàn)傳輸?shù)母呔瓤刂啤?br />   
  6. 不斷縮小進(jìn)/出口室腔體體積,提高節(jié)拍,降低成本
  
  7. 工藝氣體分配系統(tǒng)集成在陰極蓋板上
  
  8. 每一個(gè)陰極單元都配有獨(dú)立的控制系統(tǒng)
  
  9. 前后室采用整體式蓋板設(shè)計(jì),可實(shí)現(xiàn)機(jī)械提升和液壓提升
  
  10. 鍍膜區(qū)采用磁懸浮分子泵和干泵

  技術(shù)參數(shù):

SE2540H系列

SE3300H系列

基片

浮法玻璃,鋼化玻璃,夾膠玻璃等

基片尺寸

Max. 2540×3660mm(可定制)

Max. 3300×6000mm(可定制)

基片厚度

3-19mm(可定制)

機(jī)械節(jié)拍

> 20s

>30s

極限真空

< 2E-6mbar

有效運(yùn)行時(shí)間

>95%

膜層均勻性

≤±1.0%


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